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CVD・拡散材料

TEOS 等のCVD 材料は、半導体製造工程に於いて、薄膜生成のための不可欠の材料であり、ここに紹介致します製品及びグレードの他、多種の規格にあった製品を提供し、お客様のご要望に応えています。

ケイ酸エチル(TEOS) CVD材料用容器

仕様

製品名

英語名

化学式 

純度
ケイ酸エチル Tetraethyl Orthosilicate TEOS 99.99999%〜99.999999%
ホウ酸トリエチル Triethyl Borate TEB 99.99999%
リン酸トリエチル Triethyl Phosphate TEPO 99.99999%
ホウ酸トリメチル Trimethyl Borate TMB 99.99999%
リン酸トリメチル Trimethyl Phosphate TMPO 99.99999%
亜リン酸トリメチル Trimethyl Phosphite TMPI 99.99999%
オキシ塩化リン Phosphorus Oxychloride POCl3 99.9999%
三臭化ホウ素 Boron Tribromide BBr3 99.9999%
四塩化チタン Titanium Tetrachloride TiCl4 99.9999%
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