半導体材料
半導体製造工程で使用されるさまざまな高純度材料をご提供いたします。
シリコンドープ材料
当社は結晶シリコン成長時に使用されるドーパント材料のトータルサプライヤーです。
P型ドーパント材料のボロン、ガリウム、N型ドーパント材料の赤燐、アンチモン、ヒ素をご提供いたします。
高純度ボロン
アンチモン
赤燐
ガリウム
| 製品名 | 英語名 | 化学式 | 純度 | サイズ |
|---|---|---|---|---|
| 高純度ボロン | UHP Boron | B | 99.9999% | Chunk, Powder |
| 赤燐 | Red Phosphorus | P | 99.9999% | Chunk, Ingot |
| 砒素 | Arsenic | As | 99.9999% | Chunk |
| アンチモン | Antimony | Sb | 99.9999% | Chunk, Shot, Ingot |
| ガリウム | Gallium | Ga | 99.99%〜99.99999% | Shot, Ingot |
イオン注入材料
半導体工程における「不純物添加」に使用される、イオン注入材料をご提供いたします。
当社で取り扱っているイオン注入材料はガス材料と固体材料があります。
ガス材料
当社の提供する濃縮三フッ化ホウ素は、半導体に使用される11Bを、>99.8%（天然のホウ素では、11Bは約80%しか含まれていません）まで濃縮した製品であり、イオン注入工程において高いスループットと生産効率を高めます。また、シャロードープ材料として、四フッ化ゲルマニウムもご提供しております。
| 製品名 | 英語名 | 化学式 | 純度 | サイズ |
|---|---|---|---|---|
| 濃縮三弗化硼素 | 3M™ 11B Enriched Boron Trifluoride | 11BF3 | 4N | -- |
| 四弗化ゲルマニウム | Germanium Tetrafluoride | GeF4 | 4N | -- |
固体材料
| 製品名 | 英語名 | 化学式 | 純度 | サイズ |
|---|---|---|---|---|
| 赤燐 | Red Phosphorus | P | 99.9999% | Chunk, Ingot |
| 砒素 | Arsenic | As | 99.9999% | Chunk |
| 三酸化アンチモン | Antimony Trioxide | Sb2O3 | 99.999% | Granular, Powder |
| 三塩化インジウム | Indium Trichloride | InCl3 | 99.999% | Granular |
| 三フッ化アンチモン | Antimony Trifluoride | SbF3 | 99.99% | Powder |
化合物半導体
化合物半導体に使用される高純度材料をご提供いたします。
| 製品名 | 英語名 | 化学式 | 純度 | サイズ |
|---|---|---|---|---|
| 高純度ボロン | UHP Boron | B | 99.9999% | Chunk, Powder |
| アルミニウム | Aluminum | Al | 99.999%～99.99999% | Shot, Pellet, Ingot, Rod |
| ガリウム | Gallium | Ga | 99.99%〜99.99999% | Shot, Ingot |
| インジウム | Indium | In | 99.995%〜99.9999% | Ingot, Shot |
| 赤燐 | Red Phosphorus | Red P | 99.9999% | Chunk, Ingot |
| アンチモン | Antimony | Sb | 99.9999% | Chunk, Shot, Ingot |
SiCコーティング材料
TEOS等のCVD材料は、半導体製造工程に於いて、薄膜生成のための不可欠の材料であり、ここに紹介致します製品及びグレードの他、多種の規格にあった製品を提供し、お客様のご要望に応えています。
ケイ酸エチル（TEOS）
CVD材料用容器
| 製品名 | 英語名 | 化学式 | 純度 |
|---|---|---|---|
| 珪酸エチル | Tetraethyl Orthosilicate | TEOS | 99.99999%〜 99.999999% |
| 硼酸トリエチル | Triethyl Borate | TEB | 99.99999% |
| 燐酸トリエチル | Triethyl Phosphate | TEPO | 99.99999% |
| 硼酸トリメチル | Trimethyl Borate | TMB | 99.99999% |
| 燐酸トリメチル | Trimethyl Phosphate | TMPO | 99.99999% |
| 亜燐酸トリメチル | Trimethyl Phosphite | TMPI | 99.99999% |
| オキシ塩化燐 | Phosphorus Oxychloride | POCl3 | 99.9999% |
| 三臭化硼素 | Boron Tribromide | BBr3 | 99.9999% |
| 四塩化チタン | Titanium Tetrachloride | TiCl4 | 99.9999% |
| メチルトリクロロシラン | Methyltrichlorosilane | CH3SiCl3 | 99.9999% |
| 四塩化珪素 | Silicon Tetrachloride | SiCl4 | 99.9999% |
その他（高純度金属及びその化合物）
蒸着材料・MBE材料・ターゲット材料・化合物半導体材料・光学用材料等、あらゆる用途に合わせた高純度金属をご提供いたします。
アルミニウム（Al）
- 純度
- 99.999〜99.99999%
- サイズ
- Shot, Pellet, Ingot, Rod
ビスマス（Bi）
- 純度
- 99.999〜99.9999%
- サイズ
- Shot, Ingot
カドミウム（Cd）
- 純度
- 99.999〜99.9999%
- サイズ
- Shot, Ingot, Rod
マンガン（Mn）
- 純度
- 99.999%
- サイズ
- Flake
ニッケル（Ni）
- 純度
- 99.99%
- サイズ
- Pellet
テルル（Te）
- 純度
- 99.999〜99.9999%
- サイズ
- Shot, Ingot, Rod,Chunk
チタニウム（Ti）
- 純度
- 99.9%
- サイズ
- Pellet
セレン（Se）
- 純度
- 99.9999%
- サイズ
- Shot, Rod
亜鉛（Zn）
- 純度
- 99.999〜99.9999%
- サイズ
- Shot, Ingot, Rod